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網(wǎng)站首頁(yè) MPS實(shí)驗(yàn)室

封裝: TRESKY全自動(dòng)微組裝系統(tǒng); TRESKY半自動(dòng)微組裝系統(tǒng); F&K Delvotec引線(xiàn)鍵合; F&S Bondtec引線(xiàn)鍵合機(jī); AMADA平行縫焊,儲(chǔ)能焊機(jī); REK真空共晶回流爐

檢測(cè): DAGE焊接強(qiáng)度測(cè)試機(jī); SONOSCAN 超聲掃描顯微鏡; YXLON X射線(xiàn)檢測(cè)系統(tǒng); CYBER三維表面測(cè)量系統(tǒng)

前道: MPCVD微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng); HHV科研用真空鍍膜系統(tǒng); Trion等離子沉積，刻蝕; THERMCO擴(kuò)散,退火,LPCVD工藝爐; TEMESCAL精密電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

金剛石/碳化硅: MPCVD微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品資料

LPCVD化學(xué)氣相沉積工藝爐

簡(jiǎn)介：

英國(guó)Thermco Systems公司成立于1962年，是一家專(zhuān)業(yè)的臥式擴(kuò)散爐、氧化爐、退火爐、合金化爐及LPCVD爐的制造商，根據(jù)基片尺寸以及產(chǎn)量要求的不同，HTR系列可分為大批量生產(chǎn)型5100/5200系列（6英寸）、科研型2400系列（4英寸）/2600系列（6英寸）/2800系列（8英寸）等；可處理4"~10"的基片，每管處理能力分別可達(dá)25片、50片、100片及更多；根據(jù)配置不同的工藝氣源及溫度控制范圍，各型號(hào)的產(chǎn)品均可用于LPCVD、擴(kuò)散及氧化等熱處理反應(yīng)的化學(xué)氣相沉積工藝。

產(chǎn)品詳情

標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體工藝
·LPCVD氮化硅（標(biāo)準(zhǔn)型)
·LPCVD氮化硅（低應(yīng)力型）
·LPCVD斜坡溫度多晶硅
·LPCVD一致晶粒多晶硅
·LPCVD氧化層TEOS（正硅酸乙脂）
·LPCVD VLTO（低溫氧化）
·LPCVD BPSG（硼磷硅玻璃）
· 高溫氧化
· 干法氧化
· 濕法氧化
· 摻雜擴(kuò)散（3-4路液相摻雜管路 ( POCL3 or BBR3)）
· 5-6路TCA或Hcl氣路
· 混合氣體退火
· 高溫?zé)峄鼗?/span>
· 低溫退火和合金化
· 高溫驅(qū)入（Drive in）

標(biāo)準(zhǔn)LED工藝
·高真空退火（環(huán)境可控）
·低溫合金化/退火

標(biāo)準(zhǔn)PV（太陽(yáng)能）工藝
·濕氧/干氧
·PN結(jié)驅(qū)入
·Forming氣體退火
·氫氣退火
·低溫?zé)崽幚?/span>
·POCl3，BBr3 PN結(jié)和槽
·反射氮化膜（ARC Nitride coating）

標(biāo)準(zhǔn)MEMS（微機(jī)電）工藝
·低應(yīng)力CVD氮化物
·氧氮化物SIPOS
·厚氧
·TEOS，良好的臺(tái)階覆蓋能力
·多晶硅和摻雜多晶硅

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蘇州實(shí)驗(yàn)室及3D封裝中心
電話(huà)：0512-65952840

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